12月25日，中国政府采购网公示信息显示，上海微电子装备（集团）股份有限公司（以下简称“上海微电子”）中标科学技术部采购步进扫描式光刻机采购项目，成交金额为10999.985万元（约合1.1亿元），采购设备数量为一台。

值得注意的是，该项目采用单一来源采购方式。公示文件明确指出，核心原因为“国内仅上海微电子具备该型号设备的研发与供货能力”。

步进扫描式光刻机具备高分辨率光学成像能力(分辨率≤110nm)和优异的套刻精度(≤15nm)，可支持微米乃至亚微米级结构的高均匀性，高稳定性加工。其采用的扫描式曝光方式在确保加工精度的同时，兼具高效率与大尺寸加工优势，工艺一致性和稳定性突出，能够充分满足高密度神经电极阵列对极细线宽和高对准精度的苛刻工艺要求。

此次中标不仅是国家级科研体系对国产前道光刻设备技术可靠性的首次正式背书，也标志着国产光刻装备从产线验证阶段，进一步拓展至国家级科研应用场景，为后续在成熟制程领域的规模化应用奠定基础。

上海微电子成立于2002年，主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。被称为是中国大陆唯一具备前道光刻机整机研发与量产能力的企业。

股权结构方面，上海微电子由上海电气集团（上海市国资委全资控股）控股，国家集成电路产业投资基金（“大基金”）一期、二期持续战略持股，上海科技投资公司、张江高科等地方国资平台亦深度参与。其中，张江高科通过子公司持有10.78%股份，形成从中央到地方的全方位支持体系。

科研端客户亦涵盖科技部、中科院微电子所等国家级单位，此次中标进一步强化其在科研装备体系中的角色。

此次采购隶属于科技部“集成电路制造装备”重点研发计划，旨在突破半导体制造“卡脖子”环节，加速构建安全可控的科研基础设施体系。

分析人士指出，以单一来源方式采购国产设备，释放出明确政策信号：在非先进逻辑制程领域，国家将优先推动本土装备“上车验证”，形成“研发—应用—反馈—迭代”的闭环生态。

光刻机被誉为“工业皇冠上的明珠”，是决定芯片制程精度与性能上限的核心设备，广泛应用于逻辑芯片、存储器、功率器件及MEMS制造，支撑汽车电子、人工智能、高端制造等关键产业发展。

就在中国夯实光刻装备自主根基之际，全球光刻技术也在加速向更前沿领域演进。当前，全球光刻市场呈现高度垄断格局，荷兰ASML在高端领域占据绝对主导地位。

12月中旬，ASML首席执行官克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）表示，公司为High-NA EUV（高数值孔径极紫外光刻机）开发的成像系统已通过验证，“分辨率非常出色”。ASML正与英特尔、三星、台积电等客户紧密合作，目标在2026年内实现High-NA EUV系统的高稳定性运行，并预计于2027至2028年进入大规模量产阶段。

此外，12月22日，比利时微电子研究中心（IMEC）宣布，已利用ASML最先进的EUV光刻设备，成功实现纳米孔的全晶圆级制造。该技术在DNA测序、单分子传感等生物医学领域具有广阔前景。ASML公关负责人称此为“一项出人意料的卓越生物医学应用”，凸显其设备在非传统半导体场景中的延展潜力。

上海微电子中标科技部光刻设备项目，标志着国产光刻技术在成熟制程领域取得重要突破，为产业发展注入信心。虽然国产光刻产业的追赶之路任重道远，但依托国家级认可与产业链协同优势，叠加持续的技术研发投入，国产光刻产业未来可期。